1. ½ÇÇèÀÇ ¸ñÀû
Àç·áÀÇ Ç¥¸éÀ» Çö¹Ì°æÀ¸·Î °üÂûÇÏ¸é ¼®Ãâ»óÀ̳ª °áÁ¤¸³ÀÇ Å©±â ¹× Çü»ó µîÀ» ÆÇ´ÜÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù. ±¤ÇÐ Çö¹Ì°æÀÌ ¹èÀ² X 2,000 ÀÌÇÏÀÇ À̹ÌÁö¸¦ ¾òÀ» ¼ö Àִµ¥ ºñÇØ ÀϹÝÀûÀ¸·Î »ç¿ëµÇ´Â ÁÖ»çÀüÀÚÇö¹Ì°æ(Scanning Electron Microscopy)Àº ¹èÀ² X 100,000 ÀÌÇÏÀÇ °í¹èÀ² À̹ÌÁö¸¦ ¾òÀ» ¼ö ÀÖ°í, FE-SEM(Field Emission Scanning Electron Microscopy)´Â ÃÖ°í X 500,000ÀÇ ¹èÀ²·Îµµ Àç·á¸¦ °üÂû ÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù.
ÁÖ»çÀüÀÚÇö¹Ì°æ »çÁøÀ» ÅëÇØ Àç·á ´Ü¸éÇü»óÀÇ °üÂû, ºÐ¸»ÀÇ ÀÔÀÚ Å©±â, ±× ¸®°í ¹Ú¸·Àç·áÀÇ µÎ²² µîÀ» ¾Ë ¼ö Àִµ¥, ÀÌ¿¡ µû¸¥ ±â°èÀû Ư¼º º¯È ¸¦ Çؼ®ÇÒ ¼ö ÀÖ°Ô µÈ´Ù. Á¦ÀÛÇÑ ¼¼¶ó¹Í Àç·áÀÇ Ç¥¸éÇü»ó ¹× Æò±Õ °áÁ¤¸³ Å©±â¸¦ ÁÖ»çÀüÀÚÇö¹Ì°æ »çÁø ºÐ¼®À» ÅëÇØ ÃøÁ¤Çغ½À¸·Î½á ÁÖ»çÀüÀÚÇö¹Ì °æ¿¡ ´ëÇÑ ÀϹÝÀûÀÎ ÀÌÇظ¦ ¾ò´Â´Ù.
2. ½ÇÇèÀÇ ¹æ¹ý
-½ÃÇèÆíÀÇ Áغñ
¿©±â¼´Â ¼¼¶ó¹Í ºÐ¸»ÀÇ ÀÔÀÚÅ©±â ¹× ¼Ò°áüÀÇ ´Ü¸é Æò±Õ °áÁ¤¸³ Å©±â¸¦ ÃøÁ¤Çϱâ À§ÇÑ ½ÃÆíÁغñ °úÁ¤¿¡ µû¶ó ½ÃÇèÆíÀ» ÁغñÇÑ´Ù.
¨ç ½ÃÇèÆíÀÇ Àý´Ü
¼¼¶ó¹Í ºÐ¸»ÀÇ °æ¿ì¿¡´Â Ä«º» Å×ÀÙ À§¿¡ ºÐ¸»À» ¶³¾î¶ß¡¦(»ý·«)
¨è ½ÃÇèÆíÀÇ ¿¬¸¶(polishing)
¨é ½ÃÇèÆíÀÇ ´Ü¸éÀÇ ¼ÕÁú(cleaning)
¨ê ½ÃÇèÆí ´Ü¸éÀÇ ºÎ½Ä(etching)
¨ë ½ÃÇèÆíÀÇ ÄÚÆÃ
3. ÀüÀÚÇö¹Ì°æ±¸Á¶
4. ·»Áî ¼öÂ÷
1) Chromatic aberration(»ö¼öÂ÷)
|