2026 피에스케이 공정개발 인턴 면접족보

Ⅰ. 최신 면접 기출 질문 (16선)

Q1. 피에스케이 공정개발 인턴에 지원한 동기와 본인이 적합한 이유를 설명해 주세요.
글로벌 반도체 장비 시장에서 Dry Strip 분야 세계 1위를 고수하며 초격차 기술력을 입증해 온 피에스케이에서 공정 미세화 한계 를 극복하는 엔지니어로 성장하고자 지원하게 되었으며, 학부 시절 반도체 공학 및 플라즈마 응용 과목을 수강하고 공정 실습 프로 젝트를 수행하며 플라즈마 박리 및 식각 메커니즘에 대한 깊이 있는 이론적 기반을 탄탄히 다져왔고, 가스 분사 비율과 RF Power 변화에 따른 박리 속도 및 선택비 변동성을 다변량 데이터로 분석해 공정 창을 최적화한 실전 경험을 보유하고 있으며, 이러한 전 공 역량과 정밀한 분석적 사고를 바탕으로 피에스케이의 차세대 장비 공정 레시피 개발 및 고객사 데모 평가에 즉각 투입되어 초기 공정 안정화에 기여할 수 있는 준비된 인재임을 확신합니다.

Q2. PR Stripper 장비의 동작 원리와 반도체 수율 향상에 미치는 영향을 설명해 주세요.
PR Stripper는 식각 및 이온주입 공정 후 잔류하는 감광액을 감광액 하부의 박막 및 기판 손상 없이 완벽하게 제거하는 핵심 장비 로서, 산…