[SK하이닉스] Talent hy-way 신입 채용 지원서 Tech R D 공정(2026년 6월 자기소개서 및 면접자료(15선)

[SK하이닉스] Talent hy-way 신입 채용 지원서Tech R&D – R&D 공정(2026년 6월 신입) 자기소개서 및 면접자료(15선) [경험기술서] AI 활용 경험 기술 [기간] 2025.02 ~ 2026.02[경험] 생성형 AI 및 강화학습 알고리즘 기반 Plasma Enhanced CVD 공정 가스 최적화 및 박막 균일도(Uniformity) 예측 프레임워크 구축[역할] 공정 조건 매개변수 데이터 전처리, AI 기반 가상 공정 환경(Virtual Chamber) 파이썬 알고리즘 로직 구축 및 박막 수득률 검증반도체 공정 노드가 10나노미터 이하로 고도화되고 3D 적층 구조가 일반화됨에 따라, 미세 박막을 균일하게 증착하는 R&D 공정의 난이도가 기하급수적으로 증가하고 있습니다. 특히 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 공정에서 챔버 내부의 소스 가스 유량 비율, RF 파워, 압력, 서셉터 온도 등 수많은 파라미터 간의 비선형적인 상관관계를 인간 엔지니어의 경험적 직관이나 기존 가이드 실험(DOE)만으로 튜닝하는 것은 수많은 웨이퍼 손실과 개발 지연을 초래합니다. 저는 이러한 한계를 극복하고 최적의 박막 스트레스와 2% 미만의 극미세 균일도를 달성하고자, 생성형 AI의 변분 오토인코더(VAE)와 베이지안 최적화 알고리즘을 결합한 인공…
[기간] 2025.02 ~ 2026.02[경험] 생성형 AI 및 강화학습 알고리즘 기반 Plasma Enhanced CVD 공정 가스 최적화 및 박막 균일도(Uniformity) 예측 프레임워크 구축[역할] 공정 조건 매개변수 데이터 전처리, AI 기반 가상 공정 환경(Virtual Chamber) 파이썬 알고리즘 로직 구축 및 박막 수득률 검증반도체 공정 노드가 10나노미… [경험기술서] 직무 경험 기술