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1. 자발적으로 최고 수준의 목표를 세우고 끈질기게 성취한 경험
학부 시절 반도체 공정 실습 과목을 수강하며 `산화 및 박막 증착 공정의 박막 두께 균일도 98% 달성`이라는, 기존 학부생 평균치인 90%를 크게 상회하는 최고 수준의 목표를 자발적으로 설정했습니다. 반도체 소자의 미세화에 따라 나노미터 단위의 균일도 제어가 수율의 핵심임을 배웠기에, 시뮬레이션이 아닌 실제 장비를 다루는 실습에서 엔지니어로서의 정밀한 한계에 도전해보고 싶었습니다. 실습 조원들은 장비의 노후화와 가스 유량의 미세 변동으로 인해 95% 이상은 물리적으로 불가능하다며 목표의 현실성이 낮다고 평가했습니다. 저 역시 초기 3차례의 시험 가동에서 균일도가 88%에 머물자, 눈에 보이지 않는 공정 변수를 제어해야 한다는 압박감과 실패에 대한 두려움을 겪었습니다.
하지만 여기서 포기한다면 향후 현장에서도 한계를 극복할 수 없다고 생각하여 끈질기게 매달렸습니다. 가스 분사 헤드인 샤워헤드와 웨이퍼 사이의 간격 수치를 0.5밀리미터 단위로 미세 조정하는 가설을 세웠습니다. 주 2회 주어지는 실습 시간 외에도 매일 실험실에 상주하며 과거 3년간의 장비 정비 이력 …