[SK머티리얼즈퍼포먼스-면접] Photo Resist 면접질문기출, 1분 스피치, 2025면접족보

1. 면접핵심포인트

SK머티리얼즈퍼포먼스 Photo Resist 면접에서 가장 중요한 핵심은 단순히 “반도체 소재에 관심이 있습니다”라고 말하는 것이 아니라, Photo Resist가 회로 패턴 구현의 출발점이 되는 핵심 소재라는 점을 직무 언어로 설명하는 것입니다. SK머티리얼즈퍼포먼스는 반도체 회로 형성에 필수적인 Photo 소재를 개발생산하는 고분자 소재 연구 기업이며, Lithography 공정에 필요한 Photo Resist, BARC, SOC 등 소재를 개발공급한다고 소개되어 있습니다. 또한 과거 채용 공고 기준으로 Photoresist 제품 개발 및 공정 평가, 원재료 분석, 고객 대응 및 기술 지원 등이 주요 업무로 제시된 바 있어, 면접에서는 소재 개발 역량과 공정 이해, 분석력, 고객사 대응 능력을 함께 보여주는 답변이 효과적입니다.

Photo Resist는 빛에 반응하여 웨이퍼 위에 원하는 회로 패턴을 구현하게 하는 소재입니다. 포토 공정에서는 PR을 도포한 뒤 마스크를 통해 빛을 조사하고, PR 내 광산발생제 등이 반응하면서 노광 부위와 비노광 부위의 용해도 차이를 만들어 현상 후 패턴을 형성합니다. 따라서 답변에서는 감광성, 해상도, 접착력, 균일도, 결함 저감, 공정…