[면접 합격 자료] 도쿄일렉트론코리아 Process Engineer Engineer-Single Wafer Deposition(Metal CVD,AL~

1.본인의 성격의 장단점에 대해 말씀해 주세요.

저의 성격의 장점은 먼저 체계적인 문제해결 능력입니다. 반도체 공정의 특성상 변수 관리가 핵심인데, 데이터 수집과 분석을 통해 공정 변수의 상관관계와 공정 창의 안정화 포인트를 도출한 경험이 있습니다. 예를 들어 플라즈마 세정 공정에서 산소 농도 변화가 0.2% 증가할 때 수율이 1.8% 하락하는 것을 수치로 확인했고, 이를 기반으로 공정 레시피를 재구성해 3주간의 시운전에서 수율을 평균 1.4%p 개선했습니다. 또한 책임감이 강해 팀 내 역할 분담과 일정 관리에 강점이 있습니다. 프로젝트 초기 목적과 마일스톤을 명확히 설정하고 주간 리뷰를 통해 이탈 요인을 즉시 차단해 일정 준수를 92%에서 98%로 올린 사례가 있습니다. 이와 함께 협업능력이 뛰어나고 의사소통이 원활합니다. 다학제 팀에서 현상 분석 시 각 파트의 용어 차이를 조정하고, 공정 엔지니어와 재료과가 서로 이해하기 쉬운 데이터 시트를 만들어 혼선이 발생하는 시간을 평균 15시간에서 4시간으로 단축했습니다. 반대로 개선이 필요한 점으로는 가설 검증에 시간이 걸리는 편이라는 점이 있습니다. 이를 보완하기 위해 설계공정의 실험 설…