본문/내용
1. 지원동기 및 향후 계획, 전 직장 퇴사 동기
“변화는 멀리서 오지 않았습니다. 바로 현장 안에서 시작됐습니다”
반도체 산업의 변화는 예고 없이 찾아왔고, 저는 그 흐름을 현장에서 누구보다 먼저 체감해왔습니다. 현장의 작은 이상 현상 하나에서 시작해, 공정 조건의 미세한 변화가 수율과 직결되는 순간을 수없이 겪으면서, 공정 엔지니어로서 단순히 ‘라인을 지킨다’는 자세만으로는 생존할 수 없다는 사실을 절실하게 느꼈습니다. 그래서 더 빠르게, 더 민감하게 변화에 반응하며 기술적 감각과 판단력을 쌓아왔고, 이제는 그 경험들을 더 넓은 기술 영역과 도전적인 과제에 적용하고자 SK하이닉스를 선택하게 되었습니다.
저는 3D NAND 공정 라인에서 Etch 및 Ion Implantation, Annealing 공정을 주력으로 운영하며 수율 개선, 장비 최적화, 불량 분석 등 다양한 실무 경험을 쌓아왔습니다. 특히 Gate Etch 공정에서 발생한 Pattern Collapse 문제 해결을 위해 헬륨 가스 농도와 ICP 전력 조건을 정교하게 조정한 경험이 기억에 남습니다. 반복 실험을 통해 조건 안정화를 이루는 과정은 간단하지 않았지만, 공정 간 연관성을 세밀히 분석해 문제를 분해하…