본문/내용
1. 최근 5년 동안에 귀하가 성취한 일 중 가장 자랑할 만한 것은 무엇입니까
제가 최근 5년 동안 가장 자랑스럽다고 생각하는 성취는 반도체 공정 실험 프로젝트에서 “불량률 32% 감소”를 직접 이끌어낸 경험입니다. 해당 프로젝트는 초기 공정에서 발생하는 패턴 손상 문제를 해결하는 것이 핵심 과제였습니다. 당시 팀 내부에서는 장비 자체 문제라고 판단하는 분위기가 강했지만, 저는 원인을 보다 구조적으로 접근하기 위해 실험 데이터를 재분석하는 것에서 출발했습니다. 공정 조건 매트릭스를 다시 작성하고, 각 조건 변화가 손상 패턴에 미치는 영향을 분석하여 공정 변수를 단계적으로 분리해 확인했습니다.
특히 플라즈마 에칭 공정의 RF 파워와 챔버 압력 조건이 미세하게 흔들리는 패턴을 발견해 원인 분석에 착수했습니다. 장비 로그 기록과 실제 샘플 분석 결과를 교차 비교한 끝에, 특정 시점에서 챔버 온도 수렴 속도가 정상보다 늦어져 공정 안정화 구간이 확보되지 못한다는 점을 확인했습니다. 이 문제를 해결하기 위해 장비 엔지니어와 협력하여 온도 안정화 인터록(interlock) 기준을 재설정하고, 초기 예열 조건을 새롭게 도입했습니다.
그…