[원익홀딩스] 공정개발 반도체.디스플레이 공정 차세대 Gas 처리 장비 개발 2025면접자료, 면접질문 및 답변

1. 면접질문 1: 원익홀딩스 공정개발 직무 지원 동기

반도체디스플레이 제조 과정에서 발생하는 유해가스를 안정적으로 처리하는 장비는 공정 안전뿐 아니라 환경 규제 대응, 고객사의 생산 안정성까지 좌우하는 핵심 인프라 장비입니다. Gas ScrubberAbatement 기술은 반응 메커니즘유동열 특성촉매장비 설계제어까지 융합된 복합기술로, 단순 개발이 아닌 공정 엔지니어링 능력이 요구됩니다.
저는 유동반응 공정의 기초이론, 실험 장치 구축, 조건별 반응성 분석 프로젝트 등을 수행하며 공정 변수의 상관관계를 구조적으로 파악하는 역량을 키웠습니다. 특히 “공정 조건—반응 특성—장비 설계—안전—신뢰성”이 하나로 연결된 시스템적 시각을 갖추고 있어 원익홀딩스의 차세대 Gas 처리 장비 개발 업무에 최적이라고 판단했습니다.

2. 면접질문 2: 반도체/디스플레이 공정에서 Gas 처리 장비가 가지는 핵심 역할
• 유해가스 제거(독성, 발화성, 부식성)
• 반응 부산물 제거
• 실시간 공정 안정성 확보
• 고객사의 환경 규제 준수
• 라인 Shut-down 방지
• 공정 수율 …