본문/내용
1. R&D 공정 직무 지원 동기
제가 반도체 공정 R&D 직무에 관심을 갖게 된 출발점은 ‘재현 가능한 미세 세계를 만드는 기술’에 대한 강한 매력 때문이었습니다. 대학에서 박막 공정, 플라즈마 특성, 이온주입 실험 등을 경험하며, 미세한 변수 하나가 수율전기적 특성신뢰성을 모두 바꿔버린다는 것을 깨달았습니다. 특히 공정 조건을 적절히 조합해 원하는 물성을 얻었을 때의 성취감은 다른 그 어떤 분야에서도 느껴보지 못한 경험이었습니다.
SK하이닉스가 메모리 공정의 세계 1위를 향해 공격적으로 기술 혁신을 진행하는 기업이라는 점도 큰 동기가 되었습니다. AI 시대의 핵심인 HBM, 초미세 D램, 고집적 낸드의 성능은 공정 기술의 혁신 없이는 불가능합니다. 저는 공정장비소자를 함께 이해하며, 실리콘 위에서 재현 가능한 결과를 만드는 연구개발 엔지니어로 성장하고자 하여 SK하이닉스 R&D 공정 직무에 지원했습니다.
2. 공정 개발 관련 경험 중 가장 핵심이 되는 사례를 설명해 주세요.
제가 가장 의미 있게 수행한 경험은 ALD 기반 산화막 증착 조건을 최적화하는 프로젝트였습니다. 초기 조건에서는 막 두께의 Uniformity가 ±7%로 불균일…