SK머티리얼즈 반도체용 Photo Resist(감광액) 개발 직무 2025년 하반기 신입 면접기출문제 면접족보 1분 자기소개 면접질문답변

1. SK머티리얼즈에 지원한 이유는 무엇인가요

저는 첨단 반도체 산업의 핵심 경쟁력은 ‘소재’에 있다고 생각합니다. 반도체 미세공정이 3나노 이하로 진입하면서, 고해상도 Photo Resist 소재의 중요성은 기하급수적으로 높아지고 있습니다. SK머티리얼즈는 이러한 변화에 선제적으로 대응하며, EUV(극자외선) 노광용 감광액 등 차세대 소재 개발에 적극 투자하고 있습니다. 또한 SK그룹의 ‘딥체인지’ 전략은 기술뿐 아니라 조직문화에서도 도전과 혁신을 장려합니다. 저는 SK머티리얼즈에서 대한민국 소재 자립을 이끄는 엔지니어로 성장하고 싶습니다.

2. Photo Resist 개발 직무를 선택한 계기와 그 역할을 설명해 주세요.
Photo Resist는 반도체 회로의 정밀도를 결정짓는 핵심 공정소재입니다. 대학에서 고분자화학과 물리화학을 공부하며 ‘빛에 반응하는 고분자 구조’에 깊은 흥미를 가졌습니다. 졸업 연구에서는 감광성 폴리머의 노광 후 반응성을 분석하는 실험을 수행했고, 이때 미세한 조건 변화가 패턴 선폭과 균일성에 직접적인 영향을 미친다는 사실에 매료되었습니다. 이러한 경험을 통해 ‘나노 단위 세계에서 재료의 성질을 설계하는 일’…