SK머티리얼즈 반도체용 Photo Resist 개발 자기소개서 지원서와 면접자료

1. 지원하신 직무 분야의 전문성을 키우기 위해 꾸준히 노력한 경험에 대해 서술해 주십시오.

저는 반도체 공정의 핵심 소재 중 하나인 포토레지스트(Photo Resist)에 대한 이해와 전문성을 키우기 위해 학부와 대학원 과정에서 꾸준히 학습하고 연구를 이어왔습니다. 특히 반도체 미세공정에서 포토레지스트의 성능이 회로 선폭 축소와 직결된다는 사실에 깊은 관심을 가지게 되었고, 이 분야의 전문성을 쌓기 위해 화학재료공학 지식을 심화시켰습니다.

학부 시절에는 고분자 합성 실험에 집중하여 포토레지스트의 기본이 되는 고분자 구조와 광반응 메커니즘을 이해했습니다. 단순히 이론적 학습에 그치지 않고, 졸업 연구로 ‘광개시제의 농도 변화에 따른 노광 반응성 분석’ 프로젝트를 수행했습니다. 이 과정에서 노광 후 현상 속도의 차이가 패턴의 해상도와 잔류막 두께에 어떻게 영향을 주는지를 데이터로 확인할 수 있었고, 이를 통해 포토레지스트 성능 개선 연구의 방향성을 체득할 수 있었습니다.

대학원에서는 실제 반도체 미세 패터닝에 적용 가능한 차세대 포토레지스트 소재를 연구했습니다. EUV(Extreme Ultraviolet) 노광 공정에서 발생하는 …