Part 1. ¸éÁ¢ ÀüÇü ¹æ½Ä
Part 2. Á÷¹«Áö¿ø µ¿±â ¹× Ä¿¸®¾î ¸ñÇ¥
1. ¿Ö SKÇÏÀ̴нºÀÇ ¸ÞÀÎÅͳͽº Á÷¹«¿¡ Áö¿øÇÏ°Ô µÇ¾ú³ª¿ä?
2. ¿©·¯ Á÷¹« Áß¿¡¼ ¸ÞÀÎÅͳͽº¸¦ ¼±ÅÃÇÑ ÀÌÀ¯´Â ¹«¾ùÀΰ¡¿ä?
3. ¿ì¸® ȸ»ç Maintenance Á÷¹«¿¡¼ ¾î¶² ¼º°ú¸¦ ³»°í ½Í³ª¿ä?
4. ´Ü¼ø À¯Áöº¸¼ö°¡ ¾Æ´Ñ ±â¼úÀڷμ ¼ºÀåÇÏ°í ½ÍÀº ºÐ¾ß´Â?
5. 5³â µÚ, ¼³ºñ±â¼úÀڷμ ¾î¶² ¸ð½ÀÀÌ°í ½Í³ª¿ä?
6. ¼³ºñ ¿£Áö´Ï¾î·Î¼ º»ÀÎÀÇ °Á¡Àº ¹«¾ùÀΰ¡¿ä?
7. ¸ÞÀÎÅͳͽº¿Í ¿ÀÆÛ·¹ÀÌÅÍÀÇ Â÷À̰¡ ¹«¾ùÀ̶ó »ý°¢Çϳª¿ä?
8. ¸ÞÀÎÅͳͽºÀÇ Çʼö ¿ª·®À̶õ?
Part 3. Àü°øÁö½Ä ¹× ¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤ ÀÌÇØµµ
9. ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶ °øÁ¤ÀÇ Àüü È帧(Àü°øÁ¤~ÈİøÁ¤)¿¡ ´ëÇØ ¼³¸íÇØº¸¼¼¿ä.
10. ½Ä°¢(Etching) °øÁ¤¿¡ ´ëÇØ ¼³¸íÇØº¸¼¼¿ä.
11. ÁõÂø(Deposition) °øÁ¤¿¡¼ »ç¿ëµÇ´Â Àåºñ¿¡´Â ¾î¶² °ÍÀÌ ÀÖ³ª¿ä?
12. Æ÷Åä(Photo Lithography) °øÁ¤ÀÇ ¿ø¸®¿Í ÁÖ¿ä º¯¼ö´Â ¹«¾ùÀΰ¡¿ä?
13. CVD¿Í PVDÀÇ Â÷ÀÌÁ¡Àº ¹«¾ùÀΰ¡¿ä?
14. CMP °øÁ¤À̶õ ¹«¾ùÀ̸ç, ¼³ºñ À¯Áö Ãø¸é¿¡¼ ÁÖÀÇÇØ¾ß ÇÒ Á¡Àº?
15. °øÁ¤ Áß ¹ß»ýÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ´ëÇ¥ÀûÀÎ ºÒ·® À¯Çü¿¡´Â ¾î¶² °ÍÀÌ ÀÖÀ»±î¿ä?
16. ¼³ºñ¿¡¼ »ç¿ëÇÏ´Â ÆßÇÁÀÇ Á¾·ù¿Í ±× Ư¡Àº ¹«¾ùÀΰ¡¿ä?
17. ¹ÝµµÃ¼ Àåºñ¿¡ »ç¿ëµÇ´Â Gas/Chemical ¼³ºñÀÇ °ü¸®¿¡¼ Áß¿äÇÑ ¿ä¼Ò´Â?
18. PLC°¡ ¼³ºñ Á¦¾î¿¡ »ç¿ëµÇ´Â ¹æ½ÄÀº?
19. À¯Æ¿¸®Æ¼ ¼³ºñ(¿¹: CDA, DIW, N2 µî)¿¡ ´ëÇØ ¾Æ´Â ´ë·Î ¼³¸íÇØÁÖ¼¼¿ä.
20. 8´ë °øÁ¤ °ü·ÃÇØ¼ ¾Æ´Â ´ë·Î ¸»ÇØÁÖ¼¼¿ä
Part 4. ¹®Á¦ÇØ°á ´É·Â ¹× Á÷¹« »óȲ Áú¹®
21. ¼³ºñ °íÀåÀÌ ¹ß»ýÇßÀ» ¶§ °¡Àå ¸ÕÀú ¾î¶² ÀýÂ÷·Î ´ëÀÀÇϽðڽÀ´Ï±î?
22. ¹ÝµµÃ¼ ÀåºñÀÇ ÀÌ»ó ¡Èĸ¦ Á¶±â¿¡ °¨ÁöÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ¹æ¹ýÀº?
23. ¼³ºñ °íÀåÀÌ ¹ß»ýÇßÀ» ¶§ ¿øÀÎ ºÐ¼®Àº ¾î¶² ¹æ½ÄÀ¸·Î ÁøÇàÇϰڽÀ´Ï±î?
24. Trouble Shooting¿¡¼ °¡Àå Áß