[면접 합격자료] 한화이센셜 생산관리(Photolithography Wet 공정) 합격 문항 기출 최종합격

1. Photolithography Wet 공정의 기본 원리와 과정에 대해 설명해보세요.

한화이센셜 생산관리의 Photolithography Wet 공정은 반도체 제조에서 중요한 역할을 담당합니다. 이 공정은 회로 패턴을 웨이퍼 표면에 정밀하게 형성하는 단계로, 감광성 액체인 포토레지스트를 웨이퍼에 도포한 후 노광과 현상 과정을 거칩니다. 포토레지스트는 특정 파장의 자외선에 노출되면 화학적 성질이 변화하여 패턴이 생성됩니다. 웨이퍼는 200mm 또는 300mm 크기의 실리콘 웨이퍼에 균일하게 포토레지스트를 균등히 도포하는데, 이때 도포 두께는 통상 0. 1~ 0μm로 정밀하게 제어됩니다. 다음으로, 감광제에 노광하는 과정을 통해 회로 패턴을 형성하는데, 이때 사용하는 노광기에는 수백 Wolfram 방전 램프, 극자외선(UV) 광원 등이 쓰입니다. 노광 후, 웨이퍼는 현상액에 넣어 노출되지 않은 포토레지스트를 제거하고, 이로 인해 회로 패턴이 노출됩니다. 이 공정을 통해 형성된 패턴은 이후 젯팅 또는 에칭 공정을 거쳐 실리콘 기판 위에 정확히 모양이 새겨지며, 공정 수율은 약 95~98%로 안정적입니다. 한 예로, 7나노 공정에서는 4nm의 선폭을 갖는 패턴을 50회 이상 반복하여 …