[면접 합격자료] 한국광기술원 연구직 평판형 광도파로 기반 공정 기술 개발 합격 문항 기출 최종합격

1. 평판형 광도파로의 기본 구조와 작동 원리에 대해 설명해 주세요.

평판형 광도파로는 얇은 평판 형태의 기판 위에 광파를 유도하는 구조로 되어 있으며, 주로 유전체 재료와 광유도파를 이용하여 빛이 특정 경로를 따라 전달되도록 설계됩니다. 이 구조는 재료의 굴절률 차이를 활용하여 빛이 평판 내부에서 전반사 현상에 의해Guided하게 하는 원리로 작동하며, 제작 공정에서는 박막 증착, 포토리소그래피, 에칭 등의 기술이 사용됩니다. 평판형 광도파로의 굴절률은 일반적으로 45~ 55 범위 내로 조절 가능하며, 이를 통해 전달 손실을 최소화하면서 10cm 이상 거리 내에서도 손실률이 1dB 이하로 유지될 수 있습니다. 고속 통신 시장에서 실리콘 광도파로의 경우, 광전송 용량이 100Gbps 이상을 기록하였으며, 평판형 구조는 집적화가 용이해 전력 소모를 30% 이상 절감하는 효과를 보여줍니다. 이 방식은 기존 유리 기반 광도파로에 비해 20% 이상 제작 비용이 낮으며, 정밀한 패터닝 기술과 신호 손실 최소화 설계가 결합되어 첨단 광통신, 센서 응용 분야에서 널리 이용되고 있습니다.

2. 해당 연구 프로젝트에서 사용된 공정 기술의 주요 단계는 무엇인가요…