[면접 합격자료] 피에스케이 R&D-요소기술 개발 (Plasma source) 합격 문항 기출 최종합격

1. 플라즈마 소스의 기본 원리와 작동 방식을 설명해 주세요.

플라즈마 소스는 전기적 에너지와 가스 화학적 특성을 이용하여 이온, 전자, 중성 입자가 혼합된 플라즈마를 생성하는 장치입니다. 작동 원리에서는 먼저 기체 가스를 높은 전압이나 각각의 전자기 유도를 통해 이온화하여 플라즈마를 형성합니다. 예를 들어, RF (라디오 주파수) 플라즈마 소스는 1 56MHz의 주파수 전파를 이용하여 내부 가스를 이온화하며, 이 과정에서 생성된 플라즈마는 균일한 질소 또는 산소 기반의 이온을 공급하여 표면 개질, 증착, 세척 등에 활용됩니다. 또한, 방전 방식에 따라 다이오드, 코드, 전극 등을 이용하며, 특히 마이크로파 플라즈마는 높은 밀도와 균일도를 자랑하여 소형화된 장치에서도 높은 효율을 보여줍니다. 작동 온도는 수백 도에서 수천 도까지 가능하며, 생성된 플라즈마는 반도체 제조 공정의 세척률을 약 9 9%까지 향상시키고, 공정 속도를 20% 이상 증가시키는 등 실제 산업에서 그 효용이 검증되어 왔습니다. 수치적으로는 플라즈마 밀도가 10¹부터 10¹개/㎥까지 다양하며, 산업별 적합한 전력, 압력, 가스 조성을 조절하여 최적의 상태를 유지할…