[면접 합격자료] 쿠어스텍코리아 CVD Technician 정규직 합격 문항 기출 최종합격

1. CVD 공정에 대한 기본 원리와 작업 과정에 대해 설명해 주세요.

CVD(화학적 증기 증착)는 반도체 제조 공정에서 중요한 기술입니다. 이 공정은 기체 상태의 전구체(예를 들어, 실란, 수소, 암모니아 등)를 반응실 안에 주입하여 기체가 기판 표면에 화학반응을 일으켜 얇은 막을 형성하는 방식입니다. 보통 800도 내외의 온도 조건에서 진행되며, 고른 두께와 높은 순도를 확보하는 것이 중요합니다. 작업 과정은 기판 세척, 진공도 설정, 가스 주입, 화학반응 유도, 그리고 막 두께 조절단계로 나뉩니다. 특히, 수율 향상을 위해 가스 농도 및 온도 조건을 정밀하게 제어하며, 증착 속도는 5nm/s 이상 유지하면서 두께 균일도를 2% 이하로 유지하는 것이 목표입니다. 또한, 촉매 발전 효율과 함께 증착 균일성을 높이기 위해 주기적으로 장비의 내부 상태와 환경 조건을 점검하며, 이 과정에서 발생하는 오류율을 0. 1% 미만으로 유지하는 것이 중요합니다. 이러한 정밀 제어 덕분에 트랜지스터의 채널 거리와 특성의 일관성을 확보할 수 있어, 양산 과정에서 수율 99% 이상을 유지할 수 있습니다.

2. 이전에 CVD 또는 관련 반도체 공정 경험이 있다면 구체적으로 …