본문/내용
1. Wafer-Level 신공정 개발 경험이 있다면 구체적으로 어떤 프로젝트였는지 설명해 주세요.
Wafer-Level 신공정 개발 프로젝트에서는 12인치 웨이퍼를 대상으로 신뢰성 향상과 비용 절감을 목표로 작업하였습니다. 주로 CMP 공정을 포함한 평탄화 기술을 최적화하여 표면 거칠기를 2nm 이하로 낮추었으며, 이를 통해 공정수율을 15% 향상시켰습니다. 또한, 고속 홈리스드 트랜지스터의 제작 공정을 개발하여 게이트 산화막 두께를 2nm로 정밀 조절하는 기술을 확립하였고, 이를 활용하여 제품 불량률을 0. 5% 미만으로 낮췄습니다. 이번 프로젝트에서는 연간 생산량이 20만 개로 예상되었으며, 공정 시간도 기존 대비 20% 단축하는 성과를 이뤄내어 제조 원가를 최대 12% 절감하였습니다. 이외에도, 자동화된 검출장비를 도입하여 불량품 검출률을 9 9%까지 높였고, 실험 데이터 분석을 통해 공정 안정성을 확보하여 장기 신뢰성 시험에서 1000시간 이상 제품이 이상 없이 작동하는 것을 확인하였습니다. 이러한 다각적인 공정 최적화와 혁신적 기술 도입을 통해 회사의 제품 경쟁력을 크게 향상시켰으며, 업계 표준 적용에 기여하였습니다.
2. Wafer-Level 공정에서 …