[면접 합격자료] 비츠로테크 비츠로넥스텍 R&D(플라즈마) 합격 문항 기출 최종합격

1. 플라즈마 기술에 대한 기본 원리와 원자 및 분자 수준에서의 작용 방식을 설명하세요.

플라즈마는 이온화된 기체 상태로, 원자 또는 분자가 전자를 잃거나 얻어 양이온이나 전자가 되어 전기적 성질을 갖게 됩니다. 플라즈마 생성은 일반적으로 고온 또는 강한 전기장을 통해 이루어지며, 이온화 에너지가 충분히 공급되면 기체 내 입자의 전자가 떨어져 자유전자가 됩니다. 이때 발생하는 양의 이온과 전자는 서로 충돌하면서 에너지를 교환하고, 광자 방출이나 화학반응을 유도하여 플라즈마 특유의 특성이 나타납니다. 예를 들어, 반도체 제조 공정에서는 10kHz에서 수백 kHz의 RF 전력 또는 직류전원을 이용해 아르곤 또는 산소 등을 이온화하여 극히 균일한 식각, 증착 효과를 얻으며, 실제로 특정 공정에서는 플라즈마의 온도와 압력을 조절하여 수 nm 수준의 정밀한 식각이 가능하다고 보고됩니다. 또한, 플라즈마는 원자 수준에서 전자충돌을 통해 활성 산소와 오존 등 강력한 산화제를 생성하여 표면 개질, 살균, 세척 등에 사용되고 있으며, 이의 활성도는 처리 시간과 플라즈마 밀도에 따라 조절할 수 있어 기술 발전이 지속되고 있습니다.

2. 비츠로테…