[면접 합격자료] 램리서치코리아 Field Process Engineer Etch(식각) 이천 합격 문항 기출 최종합격

1. 식각 공정에서 중요한 변수들은 무엇이며, 이를 어떻게 제어하나요

식각 공정에서 중요한 변수는 식각 시간, 플레이트 온도, 가스 농도, 압력, RF 파워, 그리고 화학약품 농도입니다. 이 변수들을 정확히 제어하는 것이 중요하며, 이를 위해 먼저 플레이트 온도를 정밀하게 모니터링하고 온도 변화가 식각률과 이물질 제거에 영향을 미치는 것을 고려하여 온도제어 시스템을 도입하였습니다. 가스 농도는 질소, 클로로시안, CF4 등의 농도를 GC 분석기를 통해 지속적으로 측정하고,バ이오스와 질량센서를 이용해 가스 공급량을 정밀하게 조절하였습니다. 압력은 챔버 내 압력 센서로 실시간 체크 후 조절밸브로 안정적으로 유지하였으며, RF 파워는 식각 속도와 균일성을 높이기 위해 주파수와 출력을 자동 조절하는 제어 시스템을 구축하였습니다. 또한, 화학약품 농도는 정기적으로 분석하여 일정 수준 이하로 유지하며, 이를 위해 연속 모니터링 시스템과 피드백 제어를 병행하였습니다. 이러한 변수들을 각각의 공정 조건에 따라 최적화함으로써 평균 식각률의 변동을 2% 미만으로 유지하고, 공정 반복 수행 시 평균 식각 두께의 차이를 1nm 이내로 낮출 수 있었습…