[면접 합격자료] 동진쎄미켐 연구개발(연구소)-EUV PR용 PAG 소재 합성 개발 합격 문항 기출 최종합격

1. EUV PR용 PAG 소재의 핵심 역할과 중요성에 대해 설명해 주세요.

EUV PR용 PAG 소재는 극자외선(EUV) 노광 공정에서 핵심적인 역할을 하는 핵심 소재입니다. PAG(Photolithography Acid generator)는 EUV 노광 시 감광 특성을 담당하며, 노광 후 하부 레지스트에 도트 패턴을 형성하는 핵심 역할을 합니다. 특히, EUV는 파장이 극히 짧아 1 5nm 수준으로 미세 패턴 형성이 가능하여 5nm 이하의 고집적 반도체 생산에 필수적입니다. 그러나 EUV 노광 시 발생하는 높은 에너지와 광학적 특성으로 인해 감광능력이 뛰어난 PAG 소재 개발이 요구됩니다. PAG의 감응도 향상으로 인하여, 기존 대비 노광 공정 시간은 20% 이상 단축되고, 패턴 해상도는 3배 이상 향상된 사례가 있으며, 수명과 안정성도 크게 개선되어 생산 안정성을 높입니다. 또한, PAG 소재의 효율 향상은 노광 후 잔여 감광물의 제거 및 하부 레지스트의 이화학적 안정성을 동시에 향상시켜, 디스플레이와 같은 기타 미세 패턴 공정에서도 활용도가 높아지고 있습니다. 이러한 개발은 글로벌 반도체 제조 경쟁력 확보에 직결되며, PAG 소재의 정밀성 및 안정성 향상은 반도체 부품 미세화와 대량생산의 필…