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1. 동진쎄미켐의 EUV 공정소재 개발에 있어 본인이 기여할 수 있는 강점은 무엇이라고 생각하십니까
반도체 소재 연구개발 경험이 풍부하며, 특히 EUV 공정소재 개발에 있어 실질적인 성과를 도출한 경험이 있습니다. 지난 4년간 15회의 핵심 연구 프로젝트를 수행하며, EUV 레지스트 성능 향상에 기여하여 해상도 7nm 이하 패턴 제작에 성공하였으며, 공정 안정성도 30% 이상 향상시킨 바 있습니다. 이를 위해 고순도 화합물 합성, 나노 단위 소재 표면 개질 기술, 그리고 극한 환경에서의 신뢰성 시험 등을 주도하였으며, 소재 생산 공정 최적화를 통해 비용 절감 효과도 20% 이상 냈습니다. 특히, FELIX 장비를 활용한 레지스트 분자 설계와 분석으로 EUV 노광 공정의 감도와 패턴 품질을 개선하는 데 중요한 기여를 하였으며, 국내외 특허 5건 출원 및 논문 10여 편의 학술지 발표로 연구성과를 인정받았습니다. 이러한 경험은 소재 개발 전 과정에서의 문제 해결 능력과 최적화 노하우를 갖추게 하였으며, 최신 EUV 공정 기술 동향과 소재 시장 요구를 빠르게 파악하여 기업 경쟁력을 높이는 데 실질적인 기여를 할 수 있습니다.
2. 반도체 소재 개발 시 가장 중…