[면접 합격자료] 나노종합기술원 반도체-배터리 공정(E) 합격 문항 기출 최종합격

1. 나노종합기술원에서 진행하는 반도체 공정에 대해 설명해보세요.

나노종합기술원에서는 첨단 반도체 공정을 개발하여 글로벌 경쟁력을 갖추기 위해 지속적인 연구를 진행하고 있습니다. 반도체 제조 공정은 주로 실리콘 wafer 위에 정밀한 미세패턴을 형성하는 과정으로, 포토리소그래피, 증착, 식각, 이온주입,CMP(화학적기계적평탄화) 등을 포함합니다. 특히 포토리소그래피 기술을 활용하여 5나노미터 공정을 목표로 한 연구를 수행하며, 이 과정에서 사용하는 고해상도 EUV(극자외선) 노광장비는 파장 1 5nm 수준의 초미세 패턴을 형성할 수 있어 트랜지스터 밀도를 대폭 증가시키고, 전력 소모를 최대 30%까지 절감하는 성과를 내고 있습니다. 또한, 나노미터미터 단위의 식각·증착 기술 개발에 힘써, 공정 전반의 수율을 향상시키며 불량률을 0. 5% 이하로 낮췄습니다. 이를 위해 만들어진 첨단 장비는 하루 10,000개 이상의 웨이퍼를 처리할 수 있으며, 전체 공정 시간은 15% 이상 단축되어 생산성을 크게 높이고 있습니다. 더욱이, 적층 기술과 3D 적층 반도체 개발에 박차를 가하며, 2022년까지 3D NAND 플래시 저장장치의 성능을 25% 이상 향상시키는 …