본문/내용
1. SK실트론 EPI 공정기술 직무에 지원하게 된 동기는 무엇인가요
대학 졸업 후 반도체 공정에 대한 깊은 관심으로 EPI 공정 기술 분야에 매력을 느껴 지원하게 되었습니다. 대학 시절 반도체 제조 실험을 통해 EPI 공정이 웨이퍼의 불순물 제어와 단위 면적 증착률 향상에 핵심임을 체감하였고, 3년간 반도체 장비 유지보수 및 최적화 프로젝트를 수행하며 증착 공정에서 15%의 생산성 향상과 20%의 불량률 감소를 실현하였습니다. 특히, 신규 장비 도입 시 공정 세팅 최적화와 파라미터 조정으로 불량률을 기존 3%에서 1%로 낮춘 경험이 있습니다. SK실트론 EPI 공정기술의 핵심 가치인 높은 수율과 품질 향상에 기여하고자 이 분야에 지속적인 연구와 역량 강화를 추진하며 현재 기술 습득에 매진하고 있습니다. 이러한 경험들이 SK실트론의 첨단 EPI 공정을 지원하는 데 큰 도움이 될 것이라 확신합니다.
2. 반도체 공정, 특히 EPI 공정에 대한 이해도를 설명해 주세요.
EPI(기체 증착) 공정은 반도체 제조에서 실리콘 웨이퍼 표면에 얇은 실리콘 박막(Si epitaxial layer)을 성장시키는 핵심 공정입니다. 실란, 트라이실릴로나이트, 셸리 실리콘 등)를 활용하…