[면접 합격자료] SFA반도체 Photo공정 엔지니어 합격 문항 기출 최종합격

1. 반도체 Photo공정에서 사용하는 주요 장비와 그 역할에 대해 설명해보세요.

반도체 Photo공정에서 사용하는 주요 장비는 노광기, 현상기, 정적세척기, 건조기, UV 노광기, 그리고 포토리쉴 장비입니다. 노광기는 감광막(포토레지스트)에 회로 패턴을 정밀하게 노광하기 위해 사용하며, 노광 강도와 노광 시간 조절을 통해 1㎛ 이하의 미세 패턴 구현이 가능합니다. 현상기는 노광 후 감광막을 화학 용액으로 현상하여 원하는 패턴만 남기며, 일례로 사용되는 현상액의 농도와 온도에 따라 패턴 수율이 수배로 증가하는 사례가 있습니다. 정적세척기는 패턴 위 잔여 이물질과 화학 잔여물을 제거하며, 세척 효율은 처리 시간과 화학 농도에 따라 99% 이상 제거율이 가능합니다. 이후 건조기는 잔류수와 세척액을 제거하여 표면 건조를 담당하며, 건조 속도를 높이기 위해 온도와 공기 순환이 최적화되어 있습니다. UV 노광기는 감광막의 민감도를 높이고, 빠른 패턴 노광을 가능하게 하여 생산성을 향상시킵니다. 포토리쉴 장비는 감광막이 균일하고 안정적으로 코팅되도록 하는 역할을 하며, 장비 정밀도는 ±0. 2μm 이하입니다. 이와 같은 장비들은 모두 반도체 …