본문/내용
1. LCD Dry Etcher 공정의 기본 원리를 설명해 주세요.
LIG인베니아의 LCD Dry Etcher 공정은 디스플레이 제조 과정에서 핵심적인 역할을 수행하며, 주로 유리 기판 위에 미세한 회로를 형성하는데 사용됩니다. 이 공정은 증발된 에칭 가스를 고농도로 공급하여 원하는 패턴 부위의 유기 또는 금속 물질을 선택적으로 제거하는 원리입니다. 구체적으로, 이 공정에서는 플라즈마를 이용하여 건식 에칭이 이루어지며, 이때의 플라즈마는 낮은 온도에서 안정적으로 유지됩니다. 실별로, 에처 작업의 두께 제어는 수 nm 단위까지 정밀하게 이루어지며, 이로 인해 LCD 패널의 해상도와 광학 특성이 크게 향상됩니다. 예를 들어, 8-Phase 모듈에서는 미세 패턴의 정확성을 위해 0. 1 μm 이하의 공정 정밀도를 유지해야 하는데, 이 공정을 통해 이를 달성할 수 있습니다. 또한, 이 공정은 먼지 발생량이 낮아 균일한 에칭 품질을 유지하면서 생산성을 향상시키는 데 유리하며, 1대의 LCD 라인에서는 연간 수백만 개의 디스플레이를 생산하는 데 필수적입니다. 실제로, 이 공정을 도입한 이후 생산성은 15% 이상 증가했으며, 제품의 불량률은 5% 이하로 낮아졌습니다. 이러한 기…