포토리소[photolithography] - 가공방법 및 적용분야에 대해서

1. 포토리소그래피 개요

포토리소그래피는 반도체 제조 공정에서 핵심적인 역할을 담당하는 기술로 미세 구조를 웨이퍼 표면에 정밀하게 형성하는 방법이다. 이 기술은 빛을 이용해 감광제(포토레지스트)를 노광하고 현상하는 과정을 거쳐 미세한 패턴을 만들어내는 과정을 포함한다. 포토리소그래피의 역사는 1950년대에 시작되었으며, 이후 반도체 집적회로의 소형화와 고성능화가 진행됨에 따라 그 중요성은 더욱 커지고 있다. 현재 글로벌 반도체 시장은 연평균 7% 이상 성장하고 있으며, 포토리소그래피 시장 역시 연평균 5% 이상의 성장률을 기록하고 있다. 2022년 기준 세계 포토리소그래피 장비 시장 규모는 약 150억 달러에 달했으며, 이 중 EUV(극자외선) 기술이 차지하는 비중은 20%를 넘는다. 기술의 발전으로 10nm 이하 공정을 구현하는 데 있어 포토리소그래피는 필수적이다. 기존의 UV 노광 기술을 대체하는 노광 장비들은 높은 정밀도와 빠른 처리 속도를 갖추어야 하며, 이러한 기준을 충족하는 최신 장비는 수백 억 원에 이르는 투자 비용이 소요된다. 포토리소그래피는 반도체 뿐만 아니라 디스플레이, 태양전지, MEMS, 바이오칩 등 다양한 분야에도 응…