전기전자 트렌드 보고서 차세대 TFT로 주목받는 OxideTFT

1. Oxide TFT 개요

Oxide TFT(Thin Film Transistor)는 유기물 또는 무기물 기반의 전도성 산화물 재료를 활용한 전계효과트랜지스터로서, 기존의 실리콘 기반 TFT에 비해 우수한 전기적 특성과 열적 안정성을 갖추고 있어 차세대 디스플레이 및 전자기기에서 큰 주목을 받고 있다. 일반적으로 산화물 TFT는 인듐-주석-산소(ITO) 또는 인듐-금속-산소(ITO)와 같은 재료를 주성분으로 사용하며, 이산화티타늄(TiO₂), 산화아연(ZnO), 산화인듐(In₂O₃) 등 다양한 산화물을 활용하여 제작된다. 특히, 산화물 TFT는 높은 전자 이동도(일반적으로 10~40 cm²/V·s)를 보여주어, 이는 실리콘 산화막(약 1~2 cm²/V·s)보다 월등히 뛰어난 수치이다. 이는 보다 빠른 신호 전달과 고해상도 디스플레이 제작이 가능하게 하여, OLED, LCD 등 차세대 디스플레이 산업에 혁신적인 기술로 자리매김하고 있다. 또한, 산화물 TFT는 유연하면서도 박막화가 가능해 곡면 디스플레이에도 적용 가능하며, 제조 공정 역시 저온에서 진행할 수 있어 비용 절감 효과도 크다. 글로벌 시장 조사기관인 MarketsandMarkets 보고서에 따르면, 산화물 TFT 시장은 연평균 17.2%의 성장…