[코팅] CVD 와 PVD 코팅

1. CVD 코팅의 개요

CVD(화학적 증기 증착)는 화학 반응을 통해 기체 또는 증기 형태의 원료를 기판 표면에 화학적으로 반응시켜 얇은 막을 형성하는 증착 기술이다. 이 방식은 고온에서 진행되며, 반응성 가스를 이용하여 산화물, 탄소질, 금속 등의 박막을 증착하는 데 적합하다. CVD는 높은 균일성과 밀착력을 얻을 수 있어 자동차 엔진 부품, 전자기기, 태양전지 등에 광범위하게 활용된다. 예를 들어, 실리콘 산화막의 경우 CVD 공정을 통해 100nm 이하의 두께에서도 균일한 막 두께를 유지하는 것이 가능하며, 이는 반도체 제조공정에서 매우 중요한 조건이다. 통계자료에 따르면, CVD 기술을 이용한 박막은 전체 증착 기술 시장의 약 35%를 차지하며, 연평균 성장률은 7%에 이른다. CVD의 장점은 높은 화학적 결합력과 뛰어난 코팅 강도, 그리고 복잡한 형상에도 균일한 증착이 가능하다는 점에 있다. 그러나 단점도 있어, 공정이 고온에서 진행되므로 기판의 열에 민감한 재질에는 적합하지 않고, 공정 조건 제어가 어렵기 때문에 불순물 포획이나 결함 발생 우려도 존재한다. 특수한 저압 CVD(LPCVD) 기술은 400°C 이하에서도 증착을 가능케 하며, 집적회로 …