[반도체] Photoresist(PR)

1. Photoresist 개요

Photoresist는 반도체 제조 공정에서 핵심적인 역할을 하는 감광성 재료로서, 미세 패턴을 형성하는데 필수적인 소자이다. 이는 빛을 이용하여 일정 부분을 선택적으로 노광하고, 화학적 처리 과정을 거쳐 패턴을 형성하는 역할을 수행한다. Photoresist는 주로 유기계 고분자로 이루어져 있으며, 두 가지 유형인 양성(positive)과 음성(negative) photoresist로 나뉘어진다. 양성 photoresist는 빛에 노출된 영역이 용해되어 세척 시 제거되고, 음성 photoresist는 빛에 노출된 부분이 경화되어 남게 된다. 이러한 특성으로 인해 원하는 미세 패턴을 정밀하게 형성할 수 있어서 첨단 반도체 소자의 제조에 널리 활용된다. 반도체 산업은 지속적으로 미세화 추세에 있으며, 2023년 시장 분석에 따르면 글로벌 photoresist 시장 규모는 약 15억 달러에 달했고, 연평균 성장률은 7.5%로 전망되고 있다. 이는 미세공정 기술 발전과 더불어 모바일, 인공지능, 사물인터넷 등 첨단 전자기기의 수요 증가에 따른 것이다. 또한, 7나노 공정 이하에서는 패턴 해상도가 10nm 이하로 구현되어야 하며, 이 경우 고성능 photoresist의 사용이 필수적이다. 예를 들…