photolithography 및 etching 공정 레포트

1. photolithography 개요

포토리소그래피는 반도체 제조 공정에서 핵심적인 역할을 담당하는 기술로, 미세한 패턴을 실리콘 웨이퍼 표면에 형성하는 과정이다. 이 기술은 빛을 이용하여 감광성을 가진 소재에 패턴을 전사하는 방식으로 진행되며, 오늘날의 집적회로(IC)와 미세기계 구조 제작에 필수적인 공법이다. 포토리소그래피의 기본 과정은 감광제(포토레지스트)를 웨이퍼 표면에 균일하게 도포한 후, 자외선 또는 다른 파장의 빛을 통해 미리 설계된 마스크 패턴을 투사하는 것에서 시작된다. 이후 현상 과정을 통해 빛에 노출된 감광제는 화학적 성질이 변화하여 개발(드로잉) 후 패턴이 형성된다. 이 과정에서 미세한 패턴을 만들어내기 위해 광원은 자외선이 주로 사용되며, 해상도는 현재 수십 나노미터 수준까지 도달하였다. 포토리소그래피 기술의 발전은 지속적인 기술개선으로 가능한데, 극자외선(EUV) 포토리소그래피가 그 대표적 예목이다. EUV는 파장이 13.5nm로 기존의 193nm 짜리 불화아르곤 레이저보다 훨씬 짧아 해상도를 높이고, 집적회로 제작 공정에서 트랜지스터의 크기를 줄이는 핵심 역할을 한다. 통계자료에 의하면, 글로벌 반도체 시장은 2…