LTPS(Low Temperature Poly Silicon) 공정

1. LTPS 공정 개요

LTPS(Low Temperature Poly Silicon) 공정은 고성능 디스플레이와 반도체 소자의 제조에 있어 중요한 기술이다. 이 공정은 실리콘 박막을 저온에서 열처리하여 폴리실리콘으로 전환하는 과정을 포함하며, 기존의 고온 공정에 비해 낮은 온도에서 제작이 가능하다는 특징이 있다. LTPS는 2000년대 초반부터 액정표시장치(LCD)와 유기발광 다이오드(OLED) 디스플레이 등에 적용되기 시작했으며, 세계 시장에서 높은 성장세를 보이고 있다. 특히 스마트폰, 태블릿, 고성능 TV와 같은 디스플레이에서 요구하는 고해상도와 빠른 반응속도를 충족시키기 위해 LTPS 기술이 필수적이다. 최근 통계에 따르면, 글로벌 LTPS 시장은 2021년 약 20억 달러에서 2027년까지 연평균 10% 이상의 성장률을 기록할 것으로 기대되고 있으며, 이는 디스플레이 시장의 고해상도 채택 증가와 함께 지속적인 수요 상승을 보여준다. LTPS 공정의 핵심 단계는 먼저 실리콘 박막을 유리 기판 위에 증착하는 것으로 시작하며, 이후 마스크 또는 포토리소그래피 공정을 통해 일정 패턴으로 식각한다. 이후 낮은 온도(150~300도)에서 열처리를 하여 폴리실리콘의 결정화를 유도하는데, …