고려대학교 일반대학원 반도체공학과 연구계획서 2

1.지원동기

[미래를 선도하는 반도체 혁신] 반도체 분야의 글로벌 경쟁이 치열해지는 가운데 국내 기술 강화를 위해 선도적인 연구자가 되기 위해 고려대학교 일반대학원 반도체공학과에 지원하게 되었습니다. 반도체 소자의 전기적 특성을 향상시키기 위한 연구에 매진하였으며, 3차원 게이트 올라이트드 쇼트를 구현하여 기존 대비 전류 증폭률을 25% 향상시키는 성과를 냈습니다. 또한, 반도체 제조 공정 개선을 위한 다중층 박막 증착 기술 개발에 참여하여 증착 균일도를 98% 이상 유지할 수 있게 하였으며, 해당 연구는 국내 학술지에 게재되어 논문 인용 지수 30 이상을 기록하였습니다. 이외에도, 반도체 공정 최적화에 관한 연구에서 10회의 실험을 통해 불량률을 15%에서 3%로 낮추는 성과를 이루었으며, 이를 바탕으로 산업 현장의 생산성 향상에 기여할 수 있는 실질적인 기술력을 갖추었다고 자부합니다. 고려대학교는 첨단 반도체 연구를 위한 뛰어난 연구 인프라와 국제 협력 네트워크가 잘 구축되어 있어, 이에 참여하여 최신 기술 동향을 습득하고, 차세대 반도체 소재와 공정 개발에 기여하고자 합니다. 특히, 최신 노드 공정 기술인 3나노와 2나노 공정…