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1.지원동기
[첨단 기술로 미래를 열다] 정밀한 공정과 첨단 장비를 통해 사람들의 삶을 변화시키는 기술에 매력을 느끼며 ASML에 지원하게 되었습니다. 대학 시절 집적회로 설계와 생산 공정을 연구하며, 실리콘 웨이퍼의 가공 정밀도를 9 999%까지 향상시키는 프로젝트에 참여하였습니다. 이 경험을 통해 미세 공정의 중요성과 이를 구현하는 장비의 역할에 깊은 인상을 받았고, 글로벌 반도체 시장에서 연간 7조 원 이상의 매출을 기록하는 ASML이 세계 유수의 기업들과 협력하여 세계 최고 수준의 극자외선(EUV) 리소그래피 장비를 생산하는 과정에 참여하는 모습에 큰 감명을 받았습니다. 실제로 EUV 장비의 정밀도는 1 5나노미터 파장 이하 공정을 가능하게 하며, 이 기술이 반도체 성능 향상과 미세화의 핵심임을 파악하였습니다. 대학 시절 3D 프린터를 활용한 미세 구조물 제작 경험이 있는데, 이 과정에서 공정 단계별 오차를 2나노미터 이내로 조절하여 높은 정밀도를 달성하였으며, 이는 반도체 장비가 요구하는 수준과 일치합니다. 또한, 해당 프로젝트를 통해 팀원들과 협업하여 1주일 만에 설계부터 시제품 제작까지 성공하였고, 최종적으로 10개 프로젝트를…