한국기계연구원 플라즈마연구실-반도체 공정 가스 처리 기술 개발 BEST 우수 자기소개서

1.지원 동기

반도체 공정 가스 처리 기술 개발에 대한 지원 동기는 기술의 발전이 일상생활에 미치는 영향과 그 중요성 때문입니다. 현대 사회에서 반도체는 필수적인 요소로, 전자기기에서부터 자동차, 의료기기까지 다양한 분야에서 활용됩니다. 이러한 반도체의 생산 공정에서 가스 처리는 중요한 과정으로, 이는 제품의 품질과 직결되기 때문에 더욱 신중해야 합니다. 대학에서 화학공학을 전공하며 반도체 제조 과정과 관련된 다양한 이론과 실험을 통해 깊이 있는 지식을 쌓았습니다. 특히, 플라즈마 기술과 관련된 여러 실험을 수행하며 플라즈마가 반도체 공정에서 가스를 처리하는 데 있어 얼마나 중요한 역할을 하는지를 탐구하였습니다. 이 과정에서 플라즈마의 특성과 이를 활용한 가스 처리 기술의 발전 가능성에 대해 깊이 고민하게 되었습니다. 또한 학부 연구실에서 진행한 프로젝트를 통해 실제 산업에서 필요로 하는 기술의 현실적인 문제를 접하였고, 이를 해결하기 위해 팀원들과 협력하며 연구의 방향성을 잡고 실험을 수행하는 경험을 하였습니다. 이 과정에서 기술 개발에 있어 창의적인 사고와 문제 해결 능력이 얼마나 중요한지를 깨달았으며, 새…(생략)