본문/내용
1.지원 분야 및 직무 역량과 관련된 프로젝트/연구/경력사항에 대해 작성해 주십시오. (최소 100자, 최대 500자 입력가능)
Etch 공정 엔지니어로서 300mm 라인 기반의 반도체 제조 현장에서 6년간 근무하며, 신규 제품의 Etch 공정 개발, 양산 조건 안정화, 공정 이상 원인 분석 및 수율 향상 활동을 주도적으로 수행하였습니다. 특히 Poly 및 Oxide Etch 공정에서 LAM 장비를 활용한 Recipe 최적화 프로젝트를 주도하며, Gate CD 편차를 20% 이상 개선하고 Critical Defect 발생률을 현저히 줄였습니다. 또한 신규 고객 제품의 First Lot 대응 시, Mask/Etch 상호작용 분석 및 Chamber Matching을 통해 조기 수율 안정화를 이끌었고, 양산 도입 속도를 계획 대비 30% 단축하는 성과를 냈습니다. 공정 이상 발생 시에는 SPC 트렌드 분석, DOE 설계, TEM/SEM 분석을 활용해 Root Cause를 빠르게 도출하였고, 관련 부서와 협업하여 수평전개까지 완수한 경험이 있습니다. 이처럼 데이터를 기반으로 한 문제 해결력과 전 공정과의 연계 이해도는 Etch 공정뿐 아니라 Fab 전체 품질 및 생산성 향상에 실질적인 기여가 가능하다고 자부합니다.
2. DB하이텍 지원 동기 및 향후…