성균관대학교 일반대학원 차세대반도체공학연계전공 미래 반도체 기술 연구계획서 심층 연구 설계 및 목표

1. 연구 배경 및 목표

최근 반도체 산업은 기술적 한계에 직면하며 새로운 돌파구를 모색하고 있습니다. 미세화 기술의 한계, 전력 소모 증가, 그리고 소재 및 공정 기술의 발전 속도 저하 등이 주요 과제로 떠오르고 있죠. 이러한 어려움 속에서 차세대 반도체 기술 개발은 단순한 기술적 진보를 넘어 국가 경쟁력과 직결되는 중요한 문제가 되었습니다. 특히, 저전력, 고성능, 고집적화를 동시에 달성하는 것은 미래 반도체 기술의 핵심 목표이며, 이를 위해 다양한 연구가 진행되고 있습니다. 저는 이러한 시대적 요구에 발맞춰 성균관대학교 일반대학원 차세대반도체공학연계전공에서 심도있는 연구를 수행하고자 합니다.

저의 연구 목표는 차세대 반도체 기술의 핵심 과제 해결에 기여하는 것입니다. 구체적으로는, 기존 실리콘 기반 반도체의 한계를 극복하기 위한 새로운 소재 및 공정 기술에 대한 연구에 집중할 계획입니다. 특히, 2차원 물질을 이용한 고성능 트랜지스터 개발과 3차원 집적 기술을 통한 소자 집적도 향상 연구에 관심을 가지고 있습니다. 학부 졸업 논문 연구를 통해 2차원 물질인 이황화몰리브덴(MoS2)의 특성 분석 및 응용 연구…