본문/내용
1 서론 연구계획의 배경 및 목표
고려대학교 반도체시스템공학과 대학원 진학을 희망하는 저는 급변하는 반도체 산업 환경 속에서 미래 기술 개발 전략을 제시하고, 이를 바탕으로 혁신적인 연구를 수행하고자 합니다. 최근 반도체 기술은 Moore의 법칙 한계에 직면하며, 새로운 패러다임 전환이 요구되고 있습니다. 미세공정 기술의 한계를 극복하고 성능과 효율을 동시에 향상시키는 것이 절실한 과제이며, 이러한 기술적 난관을 극복하기 위한 끊임없는 탐구와 노력이 필요합니다.
저는 학부 시절, 반도체 소자 설계 및 공정 과목을 수강하며 CMOS 기술의 근본적인 원리를 깊이 있게 이해하고, 다양한 소자 구조와 특성 분석에 대한 전문적인 지식을 쌓았습니다. 특히, 고급 반도체 공정 실험 수업에서 10nm급 이하의 미세 패터닝 공정을 직접 경험하면서 미세 공정 기술의 복잡성과 어려움을 체감했습니다. 이러한 경험을 통해 저는 미래 반도체 기술 발전에 기여할 수 있는 잠재력을 갖추게 되었고, 고려대학교 반도체시스템공학과 대학원에서 더욱 전문적인 지식과 기술을 습득하여 세계적인 수준의 연구를 수행하고 싶다는 목표를 갖게 되었습니다. 본 연…