나노종합기술원 Si-Ge 에피공정 또는 에피응용 나노소자 자기소개서

1. Si-Ge 에피공정 또는 에피응용 분야에서 본인이 수행했던 연구 또는 프로젝트 경험에 대해 상세히 서술하시오.

나노소자 제작과 응용을 목표로 Si-Ge 에피공정 연구에 매진해왔습니다. 특히 고품질의 Si-Ge 이종접합 에피층 제조 기술 개발과 이를 활용한 나노소자 개발에 집중하였습니다. 연구 과정에서는 원래 실리콘 기판 위에 결정 성장이 어려운 Ge를 균일하게 증착하는 것을 목표로 하였으며, 이를 위해 분자선 증착(MOCVD)와 화학 기상 증착(CVD) 방식을 병행하여 최적 공정을 모색하였습니다. 초기에 Ge 증착 두께를 정확히 조절하는 데 어려움이 있었지만, 증착 조건인 온도, 압력, 전구체 농도 등을 세심하게 조정하여 낮은 결함 밀도와 균일한 두께를 확보하는 데 성공하였습니다. 이후에는 Si-Ge 이종접합부의 결정 품질 향상을 위해 표면처리와 성장 조건을 최적화하였고, 원자력 현미경과 주사 전자현미경을 활용하여 표면 거칠기와 결정 결함 유무를 정밀 분석하였습니다. 이러한 분석을 통해 불순물이나 결함으로 인한 전기적 특성 저하 문제를 해결하였고, 온도와 스트레스 관리를 통해 결정의 품질을 대폭 향상시켰습니다. 또한, 성장한 Si-Ge 에피…