본문/내용
1.지원 동기
반도체 분야는 미래 산업의 핵심이자 지속 가능한 기술 발전의 중추를 이루고 있습니다. 이러한 반도체 산업의 발전에 기여하고 싶은 열망이 저를 동진쎄미켐에 지원하게 만든 가장 큰 이유입니다. 특히 CVD(화학적 기상 증착)와 ALD(원자층 증착) 공정은 현대 반도체 소자의 미세화를 가능하게 하는 중요한 기술입니다. 이 기술들이 향후 반도체 제조에서 어떤 역할을 하게 될지를 생각하며, 이러한 혁신적인 분야에서 변화를 주도하고 싶습니다. 학부 시절부터 반도체 재료와 공정에 깊은 관심을 두고 다양한 프로젝트를 진행해왔습니다. 이를 통해 CVD와 ALD 공정의 이론과 실습을 모두 경험하며 이 기술들이 반도체 소자의 성능에 미치는 영향을 직접적으로 확인할 수 있었습니다. 연구와 실험을 통해 알게 된 다양한 전구체(precuror)가 증착에 미치는 영향을 분석하고, 최적의 조건을 찾아내는 과정에서 큰 흥미를 느꼈습니다. 이는 반도체 개발의 핵심 요소인 전구체의 중요성을 깊이 인식하게끔 해주었습니다. 기술적 이해도를 높이고 실제적인 연구에서 성과를 낼 수 있다는 자신감을 얻는 경험이었습니다. 또한, 팀 프로젝트를 통해 다양한 배경을 …