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도쿄일렉트론 코리아 Process Engineer-Etching 최종 합격 자기소개서(자소서)


자기소개 > 일반공통
파일 : 도쿄일렉트론 코리아 Process Engineer-Etching 최종 합격 자기소개서(자소서).docx   [Size : 316 Kbyte ]
분량   6 Page
가격  3,500




자료설명
도쿄일렉트론 코리아 Process Engineer-Etching 최종 합격 자기소개서(자소서)
본문/내용

1. 도쿄일렉트론코리아에 지원하게 된 계기와 지원하신 직무에 대한 생각을 기술해주시기 바랍니다. (최소 100자, 최대 500자 입력가능)

[고성능 장비와 etching의 중요성]
반도체 제조에서 중요한 요소로 소재, 부품, 장비를 말합니다. 반도체가 5나노 이하로 작아지면서 미세한 공정이 필요하게 되었고 그것을 수행할 고급장비가 중요하게 되었습니다. 반도체 공정 수업에서 도쿄일렉트론은 deposition, coating, plasma etching등 반도체 제조장비에서 에러가 적어 글로벌 회사와 일을 하고 있다고 들어 지원하게 되었습니다.
반도체가 미세화 되면서 높은 aspect ratio의 구현이 요구되고 있습니다. 전공정 수업에서 NAND 및 GAA-FET의 3d 구조를 배우면서 각층의 etching의 정확성과 기판손상 최소화가 중요하다는 것을 알게 되었습니다. 메모리의 용량을 높이기 위해 회로가 복잡해 지고, 기업은 원가 절감을 위해 저렴하고 성능 좋은 재료를 찾고 있습니다. 변하는 개발 환경에서 새로운 재료에 맞는 높은 식각비를 구현할 수 있는 공정을 개발하는 엔지니어가 되고 싶습니다.

2. 성장과정과 학창시절, 성격의 장단점에 대해 기술해주시기 바랍니다. (최소 100자, 최대 500자 입력가능

[…(생략)

3. 지원하신 직무와 관련하여 습득한 지식과 경험에 대해 기술해주시기 바랍니다. (최소 100자, 최대 500자 입력가능)

4. 앞으로의 계획과 포부에 대해 기술해주시기 바랍니다. (최소 100자, 최대 500자 입력가능)



판매정보
ID : hajo******
Regist : 2023-02-27
Update : 2023-02-27
FileNo : 23027416

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