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반도체 공정개론 솔루션 2판 Rich-ard C. Jaeger
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자료설명
미소전자소자 제조의 기초가 되는 개개의 단위 공정을 초반에 소개한 후 후반부에 이 단위 공정들로부터 이루어진 실제적인 MOS,MEMS 등의 소자와 집적 기술을 다루었다.또한 공정마다 이론적인 내용과 함께 공정에 사용되는 실제적인 응용을 깊이있게 다루었으며, 각 장의 끝에는 읽는 사람들이 해당 내용을 쉽게 이해 할 수 있도록 돕는 문제를 수록하였다.
목차/차례
- 제1장 미소전자 제조 공정 ...15
- 제2장 리소그래피 ...31
- 제3장 실리콘 산화막 ...57
- 제4장 확산 ...85
- 제5장 이온 주입법 ...131
- 제6장 박막 증착 ...155
- 제7장 상호접속과 접촉 ...181
- 제8장 패키징 및 수율 ...209
- 제9장 MOS 공정 집적화 ...235
- 제10장 양극 공정 집적화 ...273
- 제11장 MEMS 공정 ...313
본문/내용
미소전자소자 제조의 기초가 되는 개개의 단위 공정을 초반에 소개한 후 후반부에 이 단위 공정들로부터 이루어진 실제적인 MOS,MEMS 등의 소자와 집적 기술을 다루었다.또한 공정마다 이론적인 내용과 함께 공정에 사용되는 실제적인 응용을 깊이있게 다루었으며, 각 장의 끝에는 읽는 사람들이 해당 내용을 쉽게 이해 할 수 있도록 돕는 문제를 수록하였다.
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I D : ******** Date : FileNo : 11045739 |
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