Sputter Deposition

1.3. Interactions on the target surface 가속된 양이온이 고체표면에 충돌하면 중성원자 배출, 후방산란, X선 방출, 광자 발생, 이차 전자 방출, 그리고 target 표면에서 기체원자의 탈착 등이 발생하며, target에서는 비정질화, 이온침투, 화합물 형성, cascade 발생, 국부적 가열, 점결함이 생성된다. 플라즈마를 유지하는데 가장 중요한 역할을 하는 것은 이차 전자이다. 플라즈마 내에서 이차 전자는 추가적인 이온화를 일으키고 플라즈마의 광학적 발산의 color, intensity는 target 재료, gas의 종, 압력, excitation 등의 특징으로, discharge 내의 구성요소들의 존재는 특성 스펙트럼 파장의 조사로 알 수 있다. 1.4. Sputtering yield `하나의 양이온이 음극에 충돌할 때 표면에서 방출되는 원자의 수“로 정의되며, 이는 target 재료의 특성 및 입사 이온의 에너지와 질량과 관계가 있다. - 양이온의 가속 전압 ·V가 증가하면 S도 증가 ·V가 매우 크면 S는 역으로 감소(∵ 가속된 양이온이 target 내부로 깊이 박힘) 1.5. Target consideration ·가속된 이온이 가지고 있는 에너지와 운동량의 전이, 충돌로 인한 가열, 가열에 의한 어닐링, 이온이나 원자의 확산에 의해 sputtering 반응이 지배받는다. 이러한 지배요소가 target의 실제적인 사용을 제한하기도 한다.