|
| |
|
|
CVD에 관하여
파일 
CVD에 관하여.hwp
[Size :
711 Kbyte
]
CVD에 관하여.hwp
[Size :
711 Kbyte
]
분량 18 Page
가격 2,000 원
×
링크주소가 복사 되었습니다.
원하는 곳에 붙혀넣기 하세요
원하는 곳에 붙혀넣기 하세요
카트
|
다운받기
|
 네이버 ID로 다운 받기  카카오 ID로 다운 받기  구글 ID로 다운 받기  페이스북 ID로 다운 받기 |
뒤로
|
자료설명
CVD에 관한 자료입니다.
CVD에관하여
CVD에관하여
목차/차례
- 1. Introduction
- 1) CVD의 정의
- 2) CVD의 분류
- 2. Thermodynamics and Kinetics
- 1) Equilibrium Thermodynamics of Reactions
- 2) Chemical Reaction Kinetics
- 3. Thermal CVD
- 1) 압력에 따른 분류
- 2) Reactor 온도에 따른 분류
- 3) Reactor Shape에 따른 분류
- 4. PECVD
- 1) PECVD 원리
- 2) PECVD 증착 기구
- 3) PECVD의 장점 및 단점
- 5. ECR PECVD
- 1) ECR 플라즈마의 원리
- 2) ECR PECVD 증착 기구
- 3) ECR PECVD의 장점 및 단점
- 6. Photo CVD
- 1) Photochemical CVD
- 2) Laser CVD
- 1. Introduction
본문/내용
CVD에서 기체의 flow는 이 Knudsen number에 의해 viscous, transition, molecular flow로 나눌 수 있다. Knudsen number가 0.01 보다 작은 flow를 viscous flow라 한다. 이 경우 분자의 mean free path가 짧으므로 기체 분자들의 상호 충돌이 중요하게 된다. Knudsen number가 1보다 클 때 기체와 내부 벽의 충돌이 중요하게 되고 이 것을 molecular flow라고 한다. Knudsen number가 그 사이에 있을 때()를 transition flow라고 하고 이 때는 기체 분자들의 상호 충돌과 기체와 내부 벽의 충돌이 모두 중요하게 된다.
참고문헌
Reference
1. S. Sivaram, Chemical Vapor Deposition, International Thomson publishing Inc., 1987
2. M. L. Hitchman, Chemical Vapor Deposition Principle and Application,
Academic Press, 1993
3. Donald L. Smith, Thin Film Deposition, McGraw Hill Inc., 1995
4. Milton Ohring, The Materials Science of Thin Films, Academic Press, 1992
1. S. Sivaram, Chemical Vapor Deposition, International Thomson publishing Inc., 1987
2. M. L. Hitchman, Chemical Vapor Deposition Principle and Application,
Academic Press, 1993
3. Donald L. Smith, Thin Film Deposition, McGraw Hill Inc., 1995
4. Milton Ohring, The Materials Science of Thin Films, Academic Press, 1992
| 📝 Regist Info |
|
I D : kgto****** Date : 2011-03-16 FileNo : 16134210 |
Cart  | |
| |