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유도결합 플라즈마 발광광도법

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자료설명

본 자료는 유도결합 플라즈마 발광광도법에 대해 조사정리한 보고서입니다.
유도플라즈마발광광도법ICP

목차/차례

  1. 1장
  2. 유도결합플라즈마발광광도법
  3. 1. 원리 및 적용 범위
  4. 2. 개요
  5. 3. 장치
  6. 3.1 시료도입부
  7. 3.2 고주파 전원부
  8. 3.3 광원부
  9. 3.4 분광부 및 측광부
  10. 3.5 연산처리부
  11. 3.6 ICP 발광분석 장치의 설비조건
  12. 3.7 내부 삽입형 ICP-Seputtering 장치
  13. 4. 장치의 조작법
  14. 4.1 플라즈마가스의 준비
  15. 4.2 설정조건
  16. 4.3 조작순서
  17. 5. 시료의 분석
  18. 5.1 정성분석
  19. 5.2 정량분석
  20. 5.3 검량선의 교정
  21. 5.4 바탕선의 보정
  22. 5.5 기존 ICP방법의 문제점
  23. 2장 ICP를 이용한 중금속(GBC XMP)
  24. 1. 기기 원리 및 적용범위
  25. 2. 플라즈마 점화
  26. 3. setting
  27. 4. 분석
  28. 5. ICP 장비를 끌때
  29. 6. Hydride Genertor을 이용한 분석
  30. 7. 아르곤 가스를 교환한 경우
  31. 3장 ICP를 이용한 TiN,(Ti, Al)N, (Ti, Cr)N 박막의 제조
  32. 1. 유도결합플라즈마를 이용한 TiN 박막의 미세 조직 제어
  33. 2. ICP Sputting으로 제조한 TiNvl막의 경로와 접착력
  34. 3. ICP Sputtering으로 제조한 TiN 피막의 마모 특성 비교

본문/내용

ICP는 알곤가스를 플라즈마 가스로 사용하여 수정발진식 고주파발생기로부터 발생된 주파수 27.13MHZ 영역에서 유도코일에 의하여 플라즈마를 발생시킨다. ICP의 토오치(Torch)는 3중으로 된 석영관이 이용되며 제일 안쪽으로는 시료가 운반가스(알곤, 0.4~2ℓ/min)와 함께 흐르며, 가운데 관으로는 보조가스(알곤, 플라즈마가스 0.5~2ℓ/min), 제일 바깥쪽관에는 냉각가스(알곤, 10~20ℓ/ min)가 도입되는데 토오치의 상단부분에는 물을 순환시켜 냉각시키는 유도코일이 잠겨 있다. 이 유도코일을 통하여 고주파를 가해주면 고주파가 알곤가스 매체중에 유도되어 플라즈마를 형성하게 되는데 이때 테슬라코일에 의하여 방전하면 알곤가스의 일부가 전리되어 플라즈마가 점등한다. 방전시에 생성되는 전자는 고주파 전류가 유도코일을 흐를 때 발생하는 자기장에 의하여 가속되어 주위의 알곤가스와 충돌하여 이온화되고 새로운 전자와 알곤이온을 생성한다. 이와같이 생성된 전자는 다시 알곤가스를 전리하여 전자의 증식작용을 하므로서 전자밀도가 대단히 큰 플라즈마 상태를 유지하게 된다. 알곤플라즈마는 토오치 위에 불꽃형태(직경 12~15mm, 높이 약 30mm)로 생성…



📝 Regist Info
I D : kkyq******
Date : 2013-01-09
FileNo : 16130212

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