알루미늄양극산화

이를 구현하기 위해서는 램프성능의 향상과 함께 광을 적절히 유도하고 반사할 수 있는 알루미늄 반사판의 역할이 중요하다. 특히 에너지를 절약이라는 측면을 고려한다면 기존의 반사판보다 더욱 우수한 반사율과 내식성 및 내열성이 좋은 고조도 반사판이 요구되고 있는 상황이다. 그러나 이러한 조명기구는 야외나 작업현장에서 주로 사용되기 때문에 반사판의 성능을 저하시키는 환경에 많이 노출될 수 있다. 기존의 기계적 가공방법으로는 알루미늄 판재의 표면에 미소한 가공흔적이 남아있어 빛의 반사율이 저하되고 조도가 낮아지게 된다. 따라서 기존의 공구와 공작물이 접촉하는 방식의 가공법에서 탈피하여 새로운 비접촉 연마방식을 사용하므로써 알루미늄 판재의 표면 거칠기를 줄이고 표면 평활도, 정반사율을 늘리는 표면처리방법이 필요하게 되었다. 현재 비접촉 연마방식 중 알루미늄 판재에 적용 가능성이 가장 좋은 것으로 평가되고 있는 방법이 바로 양극산화(anodizing)인 것이다. Ⅱ. 양극산화의 의미와 그원리 및 목적 1. 양극산화의 의미 금속 또는 실리콘 같은 반도체 등을 적당한 전해액 속에서 양분극(陽分極)처리해 주면 표면에 산화물피막이 생성되는데 이러한 산화물층은 매우 치밀하고 견고하여 내부의 금속을 보호해 주며 이러한 보호성의 산화막 또는 부동태막을 얻는 것을 말한다. 일반적으로 Al의 양극산화(anodizing)법이 대부분을 차지하며 이렇게 생성 된 Al피막(Al2O3)은 투명 또는 반투명으로 내식성이 뛰어나고 다공질이어서 여러 가지 색으로 염색할 수 있으며 Al의 순도가 높을수록 아름답고 광택이 좋은 피막 을 얻을 수 있어 공업용은 물론 장식용으로도 많이 사용되고 있다. 순수한 알루미 늄 위에 산화물을 생성하는 속도는 다음과 같다. d = d0 ＋ A log (t＋B) 여기서 d는 막두께(Å), d0는 초기 막두께(Å), t는 시간(s), A와 B는 상수이다. 산화알루미늄은 양…
여기서 d는 막두께(Å), d…