반도체 공업의 막이용기술

2. 역삼투 (R/O : Reverse Osmosis) 역삼투장치는 초순수 제조장치 시스템 중에 다음과 같은 위치에 들어있다. ① 1차 순수제조 장치안에서는 이온교환장치 앞이나 뒤. ② 2차 순수제조장치 (서브 시스템)의 말단. ③ 폐수 회수장치내의 적절한 장소 1차 순수제조 장치내에 역삼투 장치를 사용하는 직접적인 목적은 원수안의 이물질인 미립자, 미생물, 금속 콜로이드, 유기물 등이 초순수 제조장치 안에 침입하는 것을 방지하기 위함이다. 역삼투가 탈이온 능력도 가지고 있는 것을 이용해 보통 이온교환수지장치에서 물의 순도를 높일 수 있도록 한다. 또 재생을 통해 배출액의 양을 감소시킨다. 종래에는 유기물의 많은 원수(原水)를 직접 이온교환수지(IER)에 의해 처리하는 경우를 흔히 볼 수 있었으나 음이온교환수지인 유기물 오염에서는 거의 찾아볼 수 없게 되는 등 해를 거듭할수록 순도가 상승되어 방해하는 현상은 거의 전무하다. 역삼투장치에서 물의 회수율(투과수량/공급수량)은 보통 75%이상으로 실리카(SiO2)농도가 높은 원수와 같은 경우, 즉 농출에 의해 난용성 침전을 용이하게 석출할 수 있는 성질의 원수에 대해서는 회수율을 작게 책정하는 등 특별한 방법을 이용해야 한다. 예를 들면 실리카의 경우는 25℃에서 100ppm을 넘으면 석출되기 때문에 실리카 25ppm을 포함한 원수인 경우 75%이상의 회수율을 적용하는 것은 위험 하다. 이럴때는 안전한 범위까지 회수율을 저하시키거나 또는 다시 한번 난용성 물질을 제거하거나, 그 석출을 방지하는 약품을 첨가시키는 처리를 한 후에 역삼투 장치를 사용한다.