본문/내용
나프탈렌 10g,HgSO4 5g, CONC황산 150g을 250ml retort에 취하고 흔들어 주면서 나프탈렌 표면이 용액이 되도록 가열한 후 냉각기를 retort에 연결후 3000C가 되도록 가열하면 암흑색 용액이 되는데 발생가스에 주의 한다.
retort에서 나오는 유출물은 냉수가 등어있는 기기에 받아서 여과하여 굳어진 프탈산을 세척 후 NaOH용액에 용해하여 불용인 나프탈렌을 제거하고 여액을 HCl(1:1)로 산성화시켜서 결정이 석출되면 알콜로 재결정하여 프탈산을 얻는다.녹는점 부근(184-2130C)에서 가열하면 무수프탈산이 된다.
고찰
1.단계 과정에 충실 했었기에 비록 data는 얻질 못했지만 프탈 산 제조 과정만은 알 수 있었다.
2.마지막 단계에서 1:1의 HCl을 넣으라고 과정상에 있던 주문에 대해 실험실에 비치된 HCl이 35%밖에 없어서 그로 인한 실패 가 아닌지 약간 의심이 가긴했지만 산성화시키는데는 별 무리 가 없었던 과정인 만큼 더 이상은 생각할 수 없다.
3.증류과정에서 유독가스의 발생으로 인하여 가까이서 계속 관 찰할 수 없었던만큼 이 과정에서 대부분의 과도한 반응을 어 쩔수 없이 지켜 볼 수 밖에 없었던 것이 아쉽다.
결과
이론적 반응
나프탈렌 1mol과 H2SO4를 반응시키면 1mol의 프탈산과 9mol의 SO2 2mol의 CO2 +11mol의 H2O가 발생,생성되고 Hg가 남아 있 어야 한다.