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[공학] 계면과학 실험 - 기판의 roughness와 표면처리에 따라서 접촉각이 어떻게 변하는지 관찰하고 이를 바탕으로 부착일과 Critical Surface Tension을 구하

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목차/차례

  1. Contact Angle
  2. Ⅰ. 실험 결과 및 분석
  3. ① Roughness 에 따른 접촉각 측정 (Water 사용)
  4. 기본(Si-wafer)
  5. 800
  6. 400
  7. 80
  8. ※ 숫자가 작을수록 Roughness가 커짐
  9. 구 분
  10. Roughness
  11. contact angle
  12. Average
  13. contact angle
  14. COSθ (평균값)
  15. 1
  16. 1
  17. 기본
  18. 37.3
  19. 37.86
  20. 0.7894
  21. 2
  22. 38.0
  23. 3
  24. 38.0
  25. 4
  26. 38.0
  27. 5
  28. 38.0
  29. 2
  30. 1
  31. 800
  32. 35.3
  33. 35.34
  34. 0.8156
  35. 2
  36. 35.4
  37. 3
  38. 35.4
  39. 4
  40. 35.3
  41. 5
  42. 35.3
  43. 3
  44. 1
  45. 400
  46. 31.2
  47. 31.1
  48. 0.8560
  49. 2
  50. 31.2
  51. 3
  52. 31.0
  53. 4
  54. 31.1
  55. 5
  56. 31.0
  57. 4
  58. 1
  59. 80
  60. 21.5
  61. 21.68
  62. 0.9294
  63. 2
  64. 21.9
  65. 3
  66. 21.7
  67. 4
  68. 22.1
  69. 5
  70. 21.2
  71. ※ 전체적으로 Roughness가 증가함에 따라 접촉각이 점점...

본문/내용

Contact Angle
Ⅰ. 실험 결과 및 분석

① Roughness 에 따른 접촉각 측정 (Water 사용)
기본(Si-wafer)
800
400
80

※ 숫자가 작을수록 Roughness가 커짐

구 분
Roughness
contact angle
Average
contact angle
COSθ (평균값)
1
1
기본
37.3
37.86
0.7894
2
38.0
3
38.0
4
38.0
5
38.0
2
1
800
35.3
35.34
0.8156
2
35.4
3
35.4
4
35.3
5
35.3
3
1
400
31.2
31.1
0.8560
2
31.2
3
31.0
4
31.1
5
31.0
4
1
80
21.5
21.68
0.9294
2
21.9
3
21.7
4
22.1
5
21.2
※ 전체적으로 Roughness가 증가함에 따라 접촉각이 점점 감소하는 경향을 보인다.

a) Surface Roughness
Wenzel 식에 의해 접촉각과 조도 사이의 관계를 알 수 있다.

(: 측정된 접촉각, : 사용한 고체평면과 액체 사이 Young의 식에서 얻을 수 있는 접촉각, r :조도비)
‘기본’에서의 접촉각을 이상적인 평면 표면 위에서의 접촉각()이라고 가정하면,

Roughness
조도비 (r)
기본
1
800
1.033
400
1.084
80
1.177
※ Roughness가 증가할수록 조도비(r)가 커진다.

b) 부착일의 값
부착일 계산방법은 Yo…



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I D : leew*****
Date : 2015-04-30
FileNo : 15043045

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