공학 - 플라즈마에 관해서[정의, ICP, CCP, 스퍼터링 (sputtering)]

공학 - 플라즈마에 관해서[정의, ICP, CCP, 스퍼터링 (sputtering)]
목 차

1.플라즈마란

2.ICP , CCP

3.스퍼터링 (sputtering)

참고문헌
1.플라즈마란
`그림 1` 플라즈마

1)정의 및 특징

“이온화한 기체”를 말한다. 우리는 이러한 상태를 고체, 액체 ,기체도 아닌 “물질의 제 4상태”라고 말하기도 한다. 플라즈마는 우리가 생각하는 고체보다고 높은 밀도로 압축할 수 있고 기체 상태와 같이 낮은 압력에서도 존재한다.
기체 입자에 에너지가 가해지면 (일반적으로 가속된 전자의 충돌에 의하여 에너지가 전달되거나 그 외에도 열이나 micro-wave에 의해서도 가능) 최외각 전자가 궤도를 이탈해 자유 전자가 되기 때문에 기체 입자는 양전하를 갖게 된다, 이렇게 형성된 전자들과 이온화된 기체 입자들 다수가 모여 전체적으로 전지적인 중성을 유지하며 구성 입자들간의 상호작용에 의해서 독특한 빛을 방출하고 입자들이 활성화되어 높은 반응성을 갖게 되는데 이러한 상태를 흔히 이온화환 기체 또는 플라즈마라 말한다. 플라즈마는 전자밀도와 온도에 따라 다양한 형태에서 나타…(생략)

2)구성

3)플라즈마의 특성